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小型台式磁控溅射镀膜机

发布时间:2019-11-01 浏览次数:0

产品介绍

设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
设备组成
系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(3个靶)、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
技术指标:
1. 极限真空度6.7×10-5Pa; 分子泵满速1小时后真空度达到4×10-4Pa;
2. 超高真空磁控靶:有效尺寸3英寸,数量:3支,永磁靶(自带侧开挡板),水冷;
3. 靶基距120-200mm可调,用光轴加直线轴承导向,可手动连续调节,有刻度指示;三靶共溅射,靶可摆角度,角度为0~45℃;
4. 样品加热:采用碘钨灯加热方式对样品进行加热,样品最高可加热400℃;
5. 磁控溅射样品有效尺寸:Φ60mm,一次只镀1片;镀膜时样品架实现自转,自转转速为0~50转/分;样品加负偏压0-200V可调;
6. 气体控制:气体流量通过两路质量流量控制器控制,流量范围为:0~50 sccm;
7. 系统带有手动控制功能,主要实现样品的加热控制;样品的旋转控制;磁控靶档板的控制;真空度的采集。

商家资料

公司名称 北京维意真空技术应用有限责任公司
公司地址: 北京市大兴区旧桥路25号院
公司电话: 010-67947887
传真: 010-67947887
公司简介: 公司名称(现用名):北京维意真空技术应用有限责任公司 公司名称(曾用名):北京科立方真空技术应用有限公司 覆盖区域:北京、天津、河北 北京维意真空技术应用有限责任公司,原名北京科立方真空技术应用有限公司,创立于2013年,位于中国·首都北京密云经济技术开发区,主体经营分为真空配件销售、真空设备定制、浅蓝纳米科技三个部分,是北京从事真空产品设计、制造、销售、维修、保养于一体的专业性的公司,公司拥有一支专业、优秀的产品技术工程师和维修技术工程师,具有丰富的行业经验,同时还与北京工业大学联合研发等离子体增强化学气相沉积系统,与北京交通大学联合研发原子层沉积系统,满足高校、研究所的教学、科研使用,同时减少相关进口设备的市场占有率,并力争创造外汇,打出中国创造的名牌! 我们的客户遍布北京各高校和研究院所、部分军工单位和电力试验所、各级的材料、物理、化学、纳米等研究领域尖端的实验室,期待您就是我们的下一位客户、朋友! 您的满意微笑是我们一直努力追求的经营目标! 技术创新、业务专业、服务诚信是我们一直遵循的经营理念! 我们热诚欢迎国内外先进的仪器制造商及科学工作者与我们联系开展各层面的合作,打造成一流的真空系统产品、等离子体增强化学气相沉积系统和原子层沉积系统供应商。
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